产品可根据腔体结构做多区独立功率排布，搭配专属冷端防护结构，有效保护法兰、密封件等精密配件，避免高温老化。在沉积类工艺中，等离子体的密度和分布会影响薄膜的填隙效果与沉积一致性。这款侧壁线圈安装在腔体侧壁，和其他激励部件配合使用，为工艺提供射频耦合能力。在线圈材料与结构上做了针对工艺环境的考虑，兼顾耐腐蚀与长期使用需求；同时通过参数匹配，让射频耦合保持在较稳定的状态。产品也配有绝缘与防护结构，便于实现电气隔离与可靠安装，并支持配置冷却方案，用于控制运行温升、提高运行稳定性。

• 真空工艺腔体设备：用于腔体侧壁补温，平衡腔体温场，减少壁面温差带来的工艺不稳定问题。
• 面板与光电真空工艺设备：薄膜沉积、表面处理与腔体清洁等。
• 工业与科研等离子体系统：材料表面改性、清洗活化、功能涂层与工艺验证平台等。
• 各类工业制程设备：需持续烘烤除气、恒温保持、防冷凝的工艺腔体场景。

• 温场均衡：侧壁环绕式加热结构，可有效补偿腔体侧壁热损耗，改善局部低温区域，让腔体内温度分布更均匀。
• 冷端防护设计：接头区域低温可控，保护密封结构与法兰组件，降低设备老化风险，提升设备整体稳定性。
• 适配复杂工况：铠装绝缘结构抗压、耐热、稳定性强，适配真空、高温连续运行工况。
• 高度定制适配：外形尺寸、绕制方式、功率配置、安装结构均可按需调整，适配不同设备腔体结构。
• 稳定制程适配：可配合设备烘烤除气流程，帮助腔体快速达到稳定工艺状态，维持设备连续运行效率。
• 防腐蚀与洁净度保障：针对无尘室及设备内部的运行工况，线圈表面附着专用防腐抗氧化镀层，长期使用不易变色或产生剥落物，避免对洁净环境造成微粒污染。